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    芯片設計抄襲 直接復制布局圖“2個點”即為侵權

    放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2014-10-09     來源:[標簽:出處]     作者:[標簽:作者]     瀏覽次數(shù):114
    核心提示:
    布圖設計糾紛案,作出駁回上訴請求的終審判決。根據(jù)原判,深圳市銳能微科技有限公司應立即停止侵害鉅泉光電科技(上海)股份有限公司享有的att7021au集成電路布圖設計專有權,并賠償經(jīng)濟損失等共計320萬元。

      4年前,專注于智能電網(wǎng)和物聯(lián)網(wǎng)技術研發(fā)的鉅泉公司將專業(yè)從事集成電路研發(fā)、生產(chǎn)、銷售并獲得過“中國半導體創(chuàng)新產(chǎn)品和技術獎”的銳能微公司告上法庭。鉅泉公司指責,銳能微公司的兩個芯片抄襲了自己的att7021au布圖設計。據(jù)此,向上海一中院提起訴訟,要求被告立即停止侵權行為、銷毀侵權產(chǎn)品及產(chǎn)品宣傳資料、在相關媒體公開道歉,并賠償1500萬元。值得一提的是,鉅泉公司原銷售經(jīng)理陳某、原研發(fā)部門從事ic設計工作的趙某分別是銳能微公司現(xiàn)任總經(jīng)理和設計總監(jiān)。

      去年12月24日,一審法院作出相關判決。但鉅泉公司和銳能微公司均不服,提起上訴。上海高院審理認為,集成電路布圖設計的創(chuàng)新空間有限,因此在“相同或實質性相似”的認定上應當采用較為嚴格的標準。依據(jù)本案證據(jù)認定,雙方芯片的集成電路布圖設計有極小部分構成實質性相似。具體表現(xiàn)為,銳能微公司未經(jīng)許可直接復制了鉅泉公司芯片布圖設計中的“2個點”并進行商業(yè)銷售。盡管它只是占整個集成電路布圖設計比例很小的非核心部分布圖設計,但其獨創(chuàng)性也應受到法律保護。

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